设备名称：光谱椭偏仪

　　设备介绍：高精度快速测量光谱椭偏仪,具备双旋转补偿器同步控制技术和透明基底消背反技术等技术，快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析，适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度、微光斑、可视化调平系统等高兼容性灵活配置，支持多功能模块定制化设计。

　　设备技术指标参数：

　　光谱范围：370-1700nm

　　光谱分辨率：0.8 nm

　　膜厚测量重复性精度： 0.007nm

　　光学常数折射率精度：0.0005

　　测量光斑尺寸：1-3mm，另提供200μm微光斑

　　载物台：可放置样品的最大尺寸为φ220mm

　　Delta测量范围：0-360°

　　（联系人：王丽荣 联系电话：13531892640）