设备名称：高真空镀膜机

　　设备介绍：用于小规模高精度的镀膜加工。

　　设备技术指标参数：具有溅射镀膜、蒸镀、脉冲碳蒸镀三个工作模式；配备了膜厚监控仪；现有溅射靶材包括：Pt,Au,Ag,Ti,Al等。溅射镀膜中镍颗粒小于 2nm， 铂颗粒小于 5nm， 膜厚监控数值精度 0.1nm；工作腔室内径150mm，有旋转台；极限真空度10-5mbar。

　　长春理工大学中山研究院光电/生物纳米检测与制造中心详情链接：https://zs.cust.edu.cn/kjpt/zykysys/2c2dc3b5df384e149810295196e86af9.htm 

　　（联系人：吴老师 联系电话：0760-86981127）