名称：高分辨紫外光刻机

　　型号：EULITHA PhableR 100C UV  

　　仪器详情：利用非接触式DTL光刻技术，实现大面积、高质量、高重复性的纳米结构的制备。最大曝光面积：100 mm × 100 mm (4寸)；图形分辨率：P250 nm ~ P1100 nm (以线条光栅为例)；分辨率：优于125 nm线宽；图形占空比：30%-50%；周期精度：优于0.1 nm；线宽精度：优于±10%CD。可用于制备大面积周期结构。

　　（联系人：王老师 联系电话：0760-86981105） 

　　邮箱：wangbssd@cust.edu.cn